实验芯片解剖实验 报告范文分享

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  课程名称:芯片解剖实验W9O中文字网

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  学 号:W9O中文字网

  姓 名:W9O中文字网

  教 师:W9O中文字网

  年六月二八日W9O中文字网

  实验一 去塑胶芯片的封装W9O中文字网

  实验时间: 同组人员:W9O中文字网

  一、实验目的W9O中文字网

  一.了解集成电路封装知识,集成电路封装类型。W9O中文字网

  二.了解集成电路工艺流程。W9O中文字网

  三.掌握化学去封装的方法。W9O中文字网

  二、实验仪器设备W9O中文字网

  一:烧杯,镊子,电炉。W9O中文字网

  二:发烟硝酸,弄硫酸,芯片。W9O中文字网

  三:超纯水等其他设备。W9O中文字网

  三、实验原理和内容W9O中文字网

  实验原理:W9O中文字网

  一..传统封装:塑料封装、陶瓷封装W9O中文字网

  (一)塑料封装(环氧树脂聚合物)W9O中文字网

  双列直插 DIP、单列直插 SIP、双列表面安装式封装 SOP、四边形扁平封装 QFP 具有J型管脚的塑料电极芯片载体PLCC、小外形J引线塑料封装 SOJW9O中文字网

  (二)陶瓷封装W9O中文字网

  具有气密性好,高可靠性或者大功率W9O中文字网

  A.耐熔陶瓷(三氧化二铝和适当玻璃浆料):针栅阵列 PGA、陶瓷扁平封装 FPGW9O中文字网

  B.薄层陶瓷:无引线陶瓷封装 LCCCW9O中文字网

  二..集成电路工艺W9O中文字网

  (一)标准双极性工艺W9O中文字网

  (二)CMOS工艺W9O中文字网

  (三)BiCMOS工艺W9O中文字网

  三.去封装W9O中文字网

  一.陶瓷封装W9O中文字网

  一般用刀片划开。W9O中文字网

  二. 塑料封装W9O中文字网

  化学方法腐蚀,沸煮。W9O中文字网

  (一)发烟硝酸 煮(小火) 二零~三零分钟W9O中文字网

  (二)浓硫酸 沸煮 三零~五零分钟W9O中文字网

  实验内容:W9O中文字网

  四、实验步骤W9O中文字网

  一.打开抽风柜电源,打开抽风柜。W9O中文字网

  二.将要去封装的芯片(去掉引脚)放入有柄石英烧杯中。W9O中文字网

  三.带上塑胶手套,在药品台上去浓硝酸。向石英烧杯中注入适量浓硝酸。(操作时一定注重安全)W9O中文字网

  四.将石英烧杯放到电炉上加热,记录加热时间。(注重:火不要太大)W9O中文字网

  五.观察烧杯中的变化,并做好记录。W9O中文字网

  六.取出去封装的芯片并清洗芯片,在显微镜下观察腐蚀效果。W9O中文字网

  七.等完成腐蚀后,对废液进行处理。W9O中文字网

  五、实验数据W9O中文字网

  一:开始放入芯片,煮大约二分钟,发烟硝酸即与塑胶封转起反应,W9O中文字网

  此时溶液颜色开始变黑。W9O中文字网

  二:继续煮芯片,发现塑胶封装开始大量溶解,溶液颜色变浑浊。W9O中文字网

  三:大约二十五分钟,芯片塑胶部分已经基本去除。W9O中文字网

  四:取下烧杯,看到闪亮的芯片伴有反光,此时芯片塑胶已经基本去除。W9O中文字网

  六、结果及分析W9O中文字网

  一:加热芯片前要事先用钳子把芯片的金属引脚去除,因为此时如果不去除,它会与酸反应,消耗酸液。W9O中文字网

  二:在芯片去塑胶封装的时候,加热一定要小火加热,因为发烟盐酸是易挥发物质,如果采用大火加热,其中的酸累物质变会分解挥发,引起容易浓度变低,进而可能照成芯片去封装不完全,或者去封装速度较慢的情况。W9O中文字网

  三:通过实验,了解了去塑胶封装的基本方法,和去封装的一般步骤。W9O中文字网

  实验二 金属层芯片拍照W9O中文字网

  实验时间: 同组人员:W9O中文字网

  一、实验目的W9O中文字网

  一.学习芯片拍照的方法。W9O中文字网

  二.掌握拍照主要操作。W9O中文字网

  三. 能够正确使用显微镜和电动平台W9O中文字网

  二、实验仪器设备W9O中文字网

  一:去封装后的芯片W9O中文字网

  二:芯片图像采集电子显微镜和电动平台W9O中文字网

  三:实验用PC,和图像采集软件。W9O中文字网

  三、实验原理和内容W9O中文字网

  一:实验原理W9O中文字网

  根据芯片工艺尺寸,选择适当的放大倍数,用带CCD摄像头的显微镜对芯片进行拍照。以行列式对芯片进行图像采集。注重调平芯片,注重拍照时的清晰度。二:实验内容W9O中文字网

  采集去封装后金属层照片。W9O中文字网

  四、实验步骤W9O中文字网

  一.打开拍照电脑、显微镜、电动平台。W9O中文字网

  二.将载物台粗调焦旋钮逆时针旋转到底(即载物台最低),小心取下载物台四英寸硅片平方在桌上,用塑料镊子小心翼翼的将裸片放到硅片靠中心的位置上,将硅片放到载物台。W9O中文字网

  三.小心移动硅片尽量将芯片平整。W9O中文字网

  四.打开拍照软件,建立新拍照任务,选择适当倍数,并调整到显示图像。(此处选择二零倍物镜,即拍二零零倍照片)W9O中文字网

  五.将显微镜物镜旋转到最低倍五X,慢慢载物台粗调整旋钮使载物台慢慢上升,直到有模糊图像,这时需要小心调整载物台位置,直至看到图像最清晰。W9O中文字网

  六.观察图像,将芯片调平(方法认真听取指导老师讲解)。W9O中文字网

  一零.观测整体效果,观察是否有严重错位现象。如果有严重错位,要进行重拍。W9O中文字网

  一一.保存图像,关闭拍照工程。W9O中文字网

  一二.将显微镜物镜顺时针跳到最低倍(即: 五X)。W9O中文字网

  一三.逆时针旋转粗调焦旋钮,使载物台下降到最低。W9O中文字网

  一四.用手柄调节载物台,到居中位置。W9O中文字网

  一五.关闭显微镜、电动平台和PC机。W9O中文字网

  五、实验数据W9O中文字网

  采集后的芯片金属层图片如下:W9O中文字网

  六、结果及分析W9O中文字网

  一:实验掌握了芯片金属层拍照的方法,电动平台和电子显微镜的使用,熟悉了图像采集软件的`使用方法。W9O中文字网

  二:在拍摄金属层图像时,每拍完一行照片要进行检查,因为芯片有余曝光和聚焦的差异,可能会使某些照片不清晰,对后面的金属层拼接照成困难。所以拍完一行后要对其进行检查,对不符合标准的照片进行重新拍照。W9O中文字网

  三:拍照是要保证芯片全部在采集视野里,根据四点确定一个四边形平面,要确定芯片的四个角在采集视野里,就可以保证整个芯片都在采集视野里。W9O中文字网

  四:拍照时的倍数选择要与工程分辨率保持一致,过大或过小会引起芯片在整个视野里的分辨率,不能达到合适的效果,所以采用相同的倍数,保证芯片的在视野图像大小合适。W9O中文字网

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